领先的韩国LED制造商首尔半导体（SeoulSemiconductorCo.Ltd）宣布，针对日本日亚化学工业有限公司（Nichia）称首尔半导体侵犯其美国专利（专利号:USP6,870,191,“191”）在美国密歇根地方法院的诉讼，首尔半导体将全力应诉，并认为日亚在该诉讼中必定失利。在核对了日亚的专利号以后，首尔半导体相信日亚的LED基片是以突出和凹入的梯形面为特征，不同于首尔半导体。从此点可以判断，首尔半导体将再一次胜诉。

　　首尔半导体的有关人员表示,日亚持续向媒体发放并未定案的诉讼消息，以混淆客户对事件的认知。在之前的一起诉讼中，一位联邦法官曾指出日亚不当行为，认为看似日亚利用诉讼“意图在亚洲努力获得附带的利益。首尔半导体相信日亚的此次诉讼是对法律程序的又一次滥用。

　　至今为止，首尔半导体和日亚在全球共有12次诉讼。首尔半导体相信同样将在日亚此次美国密歇根州的诉讼中取得胜利。不久前，首尔半导体成功地指出日亚自称为核心LED专利之一的专利缺乏“创新”。在该次诉讼中，首尔半导体再次指出，日亚191号专利同样无效，原因是多重LED板结构与现有日亚产品雷同。

　　首尔半导体15年来一直致力于LED的集中研发,拥有2,000多项专利以及生产销售世界唯一的ACRICHE和DeepUVLED,并与全球领先的LED制造商开展相互授权(CrossLicense)合作。首尔半导体认可并尊重他人的知识产权，同时希望自身的知识产权也受到同样的尊重。